000 01405nam a2200325 c 4500
001 000010127
003 GPIRAS
005 20240124135144.0
008 230210s1988 un ||||||| |||| ||rus d
020 _a5120093345
035 _a(RuMoBEN) 001939508
040 _aRuMoBEN
_brus
_ercr
041 0 _arus
044 _aun
080 _a621.315.592.002:620.22
245 1 0 _aИонная имплантация и лучевая технология
_cДж.С. Вильямс, Дж.М. Поут, Дж.Ф. Гиббонс и др., Под ред. Дж.С. Вильямса, Дж.М. Поута, Пер. с англ. А.М. Евстигнеева, Под общ. ред. акад. О.В. Снитко
260 _aКиев
_bНаук. думка
_c1988
300 _a258 с.
_bил.
500 _aПер. изд.: Ion implantation and beam processing (Sydney etc., 1984)
500 _aАвт. указаны в огл.
504 _aБиблиогр.: с. 327-353
555 _aПредм. указ.: с. 354-358
700 1 _aВильямс, Дж.С.
700 1 _aПоут, Дж.М.
700 1 _aГиббонс, Дж.Ф.
700 1 _aЕвстигнеев, А.М.
_eпер.
700 1 _aСнитко, О.В.
_eред.
856 4 2 _3Карточка
_qimage/jpeg
_uhttps://koha-admin.benran.ru/cards/Карточки на русском языке/212_4900-6599/00000114.JPG
942 _cBK
999 _c10127
_d10127