000 | 01072nam a22002411i 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | rc\471000 | ||
003 | GPIRAS | ||
005 | 20230407090003.0 | ||
008 | 030616s1988---- | c | ||
020 | _a5120093345 | ||
040 |
_aGPIRAS _brus _ercr |
||
041 | _arus | ||
245 | 1 |
_aИонная имплантация и лучевая технология _c[Дж. С. Вильямс, Дж. М. Поут, Дж. Ф. Гиббонс и др.] _cПод ред. Дж. С. Вильямса, Дж. М. Поута _cПеревод с англ. А.М. Евстигнеева _cПод общ. ред. О.В. Снитко |
|
260 |
_aКиев _bНаукова думка _c1988 |
||
300 |
_a357, [1] с. _bил. _c22 |
||
500 | _aАвт. указаны в огл. | ||
504 | _aБиблиогр.: с. 327-353 | ||
504 | _aПредм. указ.: с. 354-358 | ||
504 | _aПеревод изд.: Ion implantation and beam processing (Sydney etc., 1984) | ||
700 | 1 |
_aВильямс _qДж. С. |
|
700 | 1 |
_aСнитко _qОлег Вячеславович _4340 |
|
942 | _cBK | ||
999 |
_c8674 _d8674 |